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坩埚的投料
一、坩埚放入炉内，等自身红透，先放一点小型的金属碎料在坩埚底，再放金属锭（金属锭下埚前必须放在炉沿边上烘烤），以免冷锭直接放进埚里，造成坩埚遇冷而炸裂。而且还必须保证这些材料在坩埚中受热时有足够的膨胀空间，否则坩埚容易被挤裂。
二、烘烤的金属锭必须慢慢的竖着放进埚里。如横着放进去，金属锭热膨胀容易把坩埚挤破。往坩埚中投料时必须非常小心，是用夹钳把锭料和较重的材料小心地放入坩埚中。千万不要用倾倒的方式加料，锭料的棱角有可能撞裂坩埚。
三、使用过程中，埚里的金属水太少时，也不要一次加料太多，这样容易使埚内金属水遇冷而凝固，之后温度再次升高时，金属热膨胀而撑破坩埚。
坩埚的使用注意事项：
1、坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明坩埚。从操作上看，其熔制制度易调节，而且可以采用机械搅拌、延长保温时间、生产均匀性好、质量较高的玻璃。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。
2、石英质脆，易破，使用时要注意。
3、除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂主要由美国进口。使用期间不能够将火焰等直接对准坩埚，如果喷到，坩埚底部会出现明显的黑色痕迹。国内产的石英砂纯度都达不到其要求。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等 对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。
4、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。
